7x24
小时全球实时财经新闻
直播
坚持做最好的财经直播报道,给百姓最真的财经动态。
04月30日 14:06
三星正在考虑在其下一代DRAM极紫外(EUV)光刻工艺中应用金属氧化物抗蚀剂(MOR)。MOR被业内认为是下一代光刻胶(PR),会接棒目前先进芯片光刻中的化学放大胶(CAR)。三星正考虑在第6代10纳米DRAM(1c DRAM)中使用MOR,主要在六层或七层上使用EUV PR,相关产品将于今年下半年投入生产。 (科创板日报)
分享到:
微博
微信
QQ空间
下一条快讯将在
??
秒后
到达新浪财经APP
最先掌握财经7x24快讯
就在新浪财经APP
立即前往
扫码下载 链接财富
\