近期，光刻机板块强势走高，其板块估值水平也在不断提升。这背后究竟是哪些核心逻辑在共同发力？
多因素助推板块发展
政策支持
在政策支持方面，大基金三期首期 930 亿元重点投向光刻机产业链，目标 2030 年高端设备自主可控。地方支持方面，上海、北京等地出台专项政策，如长三角产业集群计划，目标 2025 年零部件国产化率70%。
技术突破
在光源技术方面，EUV 光源是未来的发展方向，中科院固体激光技术效率达 3.42%，接近商用水平，2030 年国产 EUV 光刻机有望落地。上海光机所等机构在 EUV 光源上探索与 ASML 不同的技术路线，并取得阶段性成果。
在光刻机精度方面，28nm 浸没式光刻机已成为当前国产替代的重点。上海微电子 28nm 光刻机进入量产验证阶段，2025 年或实现小批量出货。
在光刻技术方面，新型光刻技术不断涌现。复旦大学研发的 "无掩膜直写光刻系统" 获关注，为光刻技术提供了新的发展方向。此外，纳米压印技术也在快速发展，有望成为传统光刻技术的补充或替代方案。
市场需求
根据市场调研数据，2019 年全球光刻机市场规模约为150亿美元，预计到 2025年将达到300亿美元以上，年复合增长率超过 10%。中国市场将成为全球光刻机市场增长的重要引擎。2025 年，中国市场在全球光刻机市场中的占比将持续提升，成为重要的增长引擎。预计中国本土需求占比将达到 35% 以上，成为仅次于欧洲的第二大需求方。
光刻机国产化进程加速
据不完全统计，2025 年中国光刻机零部件国产化率已从 2020 年的 30% 提升至 60% 左右。平安证券指出，光刻机系国产算力的核心环节，其国产化进程正迎来加速度。
华鑫证券表示，随着光刻机技术的突破将带动上游材料、精密机械等配套产业升级，加速光刻胶、光学部件等 “卡脖子” 材料的国产化进程，形成 “龙头带动、多点突破”的产业升级格局。
展望未来，随着大基金三期等政策支持的持续落地，以及产业链上下游协同创新的深入推进，中国光刻机产业链国产化率将进一步提高。
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