南大光电:公司正在自主研发和产业化的ArF光刻胶可以用于90nm-14nm的集成电路工艺节点

南大光电:公司正在自主研发和产业化的ArF光刻胶可以用于90nm-14nm的集成电路工艺节点
2021年06月11日 20:40 金融界网站

本文源自:同花顺金融研究中心

  同花顺(300033)金融研究中心6月11日讯,有投资者向南大光电(300346)提问, 请老师核实一下,贵司研发的ArF光刻胶按照贵司的公告,是否可以用于7nm芯片的生产?贵司现在是否拿到14nm或者28Nm芯片生产商去认证呢?

  公司回答表示,感谢您的关注!公司正在自主研发和产业化的ArF光刻胶可以用于90nm-14nm的集成电路工艺节点。具体客户验证进展请关注公司相关信息披露。

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