芯碁微装：90nm制程节点的掩膜板制版设备技术参数行业领先，将推进90nm-65nm制版光刻设备研究_

本文源自:金融界AI电报

金融界8月19日消息，有投资者在互动平台向芯碁微装提问：你好，贵司90nm制程直写式光刻机和上海微封装光刻机是否为竞争关系？

公司回答表示：掩膜版制版方面，公司LDW系列满足90nm制程节点的掩膜板制版设备在客户端验证顺利，技术参数行业领先。公司也将推进90nm-65nm制版光刻设备的研究进程，以满足半导体掩膜版技术的更新迭代。