联特科技申请光器件的静电消除及制作方法专利,解决元件被静电击伤的问题

联特科技申请光器件的静电消除及制作方法专利,解决元件被静电击伤的问题
2024年08月20日 19:00 金融界网站

本文源自:金融界

金融界 2024 年 8 月 20 日消息,天眼查知识产权信息显示,武汉联特科技股份有限公司申请一项名为“光器件的静电消除方法以及光器件的制作方法“,公开号 CN202410492133.9,申请日期为 2024 年 4 月。

专利摘要显示,本发明涉及光通信技术领域,提供了一种光器件的静电消除方法,包括如下步骤:S1,将功能部件封装在壳体中;S2,在壳体外设置 FPC 板,所述 FPC 板具有供导电焊盘设置的多个窗口,将靠近所述壳体的窗口处的所述导电焊盘与所述功能部件电连接,其他窗口处的导电焊盘裸露在外;S3,在裸露在外的导电焊盘上覆盖绝缘阻挡层,以消除从裸露在外的导电焊盘上进入所述壳体中的静电。还提供一种光器件的制作方法,包括上述的光器件的静电消除方法。本发明通过在靠外的窗口处覆盖绝缘阻挡层,可以避免裸露在外的导电焊盘与外界物体直接接触,也就不会发生摩擦接触而产生静电电荷,直接切断静电传播源,解决元件被静电击伤的问题。

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