龙图光罩：已启动28nm制程规划，推动90nm、65nm及更高制程节点半导体掩模版的技术突破_

本文源自:金融界AI电报

金融界9月6日消息，有投资者在互动平台向龙图光罩提问：请问贵公司是否掌握28nm及以上的节点掩膜版技术？有无生产规划？

公司回答表示：公司IPO募集资金将直接用于电子束光刻机等一系列高端设备购置及产线建设，推动 90nm、 65nm 及更高制程节点半导体掩模版的技术突破，补强产业发展短板，提升自主可控水平。公司目前已启动28nm制程规划，将根据行业发展情况及公司资金情况综合考虑具体推进计划，具体请关注公司后续相关公告。