捷佳伟创申请真空镀膜机及其调试方法专利,用于获得等离子体组成比例

捷佳伟创申请真空镀膜机及其调试方法专利,用于获得等离子体组成比例
2024年09月12日 01:55 金融界网站

本文源自:金融界

金融界 2024 年 9 月 11 日消息,天眼查知识产权信息显示,深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司申请一项名为“真空镀膜机及其调试方法“,公开号 CN202410887243.5,申请日期为 2024 年 7 月。

专利摘要显示,本发明公开了真空镀膜机及调试方法,其中真空镀膜机包括:镀膜室、等离子体发生组件、至少两组光检测探头、光谱仪和控制器,镀膜室设有待镀膜位和沿第一方向的镀膜输送线,镀膜输送线经过待镀膜位,以输送基片经过待镀膜位,并镀膜至基片的表面;等离子体发生组件连通于镀膜室,设有沿第二方向朝向于待镀膜位的等离子体流道,等离子体流道于待镀膜位形成沿第三方向的镀膜区;沿第三方向间隔分布的至少两组光检测探头,光检测探头用于检测等离子体流道内的等离子体发出的混合辉光;光谱仪光连接于光检测探头,用于根据混合辉光获得光谱数据;控制器电连接于光谱仪,用于接收并处理光谱数据,并得到等离子体组成比例。

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