新美光申请一种化学气相沉积设备的进气结构及化学气相沉积设备专利,降低第一进气管出气端的堵塞概率

新美光申请一种化学气相沉积设备的进气结构及化学气相沉积设备专利,降低第一进气管出气端的堵塞概率
2024年09月18日 18:45 金融界网站

本文源自:金融界

金融界 2024 年 9 月 18 日消息,天眼查知识产权信息显示,新美光(苏州)半导体科技有限公司申请一项名为“一种化学气相沉积设备的进气结构及化学气相沉积设备“,公开号 CN202411140992.8,申请日期为 2024 年 8 月。

专利摘要显示,本发明涉及一种化学气相沉积设备的进气结构及化学气相沉积设备,进气结构包括:第二进气管和第一进气管,第二进气管环绕第一进气管布置,使通入的保护性气体环绕于通入的待反应气体。通过本发明的进气结构及化学气相沉积设备,一方面,保护性气体的通入可以使第一进气管出气端位置的气体保持相较于反应腔室内部的微正压,减少反应腔室内部的沉积原子扩散至第一进气管出气端处反应沉积的情况,显著降低第一进气管出气端的堵塞概率;另一方面,保护性气体可以均匀的将反应气体包裹在内部,避免反应气体快速扩散,在尚未达到衬底位置处时就发生反应而形成固态颗粒,导致材料膜层生长不均匀的问题。

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