本文源自:金融界
金融界 2024 年 9 月 20 日消息，天眼查知识产权信息显示，京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司申请一项名为“阵列基板及其制备方法、显示装置“，公开号 CN202410985279.7，申请日期为 2024 年 7 月。
专利摘要显示，本公开实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置。该阵列基板包括：基底、设置在所述基底上的源漏金属层、设置在所述源漏金属层远离所述基底的一侧的半导体层、设置在所述半导体层远离所述基底的一侧的栅金属层、以及设置在所述栅金属层远离所述基底的一侧的第一透明导电层；所述源漏金属层包括遮挡层、源电极、漏电极和公共电极线，所述半导体层包括有源层，所述栅金属层包括栅电极，所述第一透明导电层包括公共电极，所述源电极和所述漏电极分别与所述有源层分别与连接，所述公共电极与所述公共电极线连接，所述栅电极在所述基底上的正投影与所述遮挡层在所述基底上的正投影至少部分交叠。
