中航光电华亿申请金属薄膜压力芯体及制备方法专利,优化压力芯体结构

中航光电华亿申请金属薄膜压力芯体及制备方法专利,优化压力芯体结构
2024年09月26日 09:45 金融界网站

本文源自:金融界

金融界2024年9月26日消息,国家知识产权局信息显示,中航光电华亿(沈阳)电子科技有限公司申请一项名为“金属薄膜压力芯体及制备方法”的专利,公开号 CN 118687731 A,申请日期为2024年8月。

专利摘要显示,本发明提供金属薄膜压力芯体及制备方法,涉及压力传感器敏感元件技术领域,以在一定程度上优化压力芯体结构,改善测压电桥输出灵敏度、零位温漂和灵敏度温漂,提升传感器的工作温度范围和精度。本发明提供的金属薄膜压力芯体,包括弹性基体、绝缘层、补偿电阻、合金电阻、硅应变组件、连接件和引线;弹性基体的感压侧形成有引压口,绝缘层附着于弹性基体的背压侧,补偿电阻、合金电阻和硅应变组件均沉积在绝缘层上;连接件连接合金电阻和硅应变组件,形成惠斯顿测量电桥,引线的一端与惠斯顿测量电桥相连接,另一端与外部信号处理电路相连接。

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