博洋微电子申请银蚀刻液及其制备方法专利,高效快速得到满足银析出量较少的银蚀刻液

博洋微电子申请银蚀刻液及其制备方法专利,高效快速得到满足银析出量较少的银蚀刻液
2024年10月18日 13:55 金融界网站

本文源自:金融界

金融界2024年10月18日消息,国家知识产权局信息显示,博洋微电子(铜陵)有限公司申请一项名为“一种银蚀刻液及其制备方法”的专利,公开号 CN 118782186 A,申请日期为2024年7月。

专利摘要显示,本文提出了一种银蚀刻液及其制备方法通过CNN来发现优化的银蚀刻液配方的方法。首先,通过收集已有的银蚀刻液配方和对应的扫描电子显微镜图像,获取了各成分的化学名称和含量,进行CNN模型训练。训练完成后,该模型能够预测银析出量较少的银蚀刻液配方,该配方具体包括磷酸、柠檬酸、硝酸、硝酸钾、丙酸、EDTA、十二烷基苯磺酸纳和氯化铵等多种组分的优选比例,根据预测结果进行实验验证和优选,高效快速得到满足银析出量较少的银蚀刻液。

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