本文源自:金融界
金融界2024年10月19日消息，国家知识产权局信息显示，深圳市原速科技有限公司取得一项名为“反应腔加热机构及薄膜沉积设备”的专利，授权公告号CN 221822320 U，申请日期为2023年12月。
专利摘要显示，本实用新型涉及原子层沉积技术领域，特别涉及一种反应腔加热机构及薄膜沉积设备，该反应腔加热机构包括反应室，所述反应室具有真空的反应腔，所述反应腔内设置有样品平台，所述样品平台设置有加热丝，用于对置于所述样品平台上的反应物进行加热。该薄膜沉积设备包括上述所述的反应腔加热机构。本实用新型提供的反应腔加热机构及薄膜沉积设备的加热速度快，能够使得样品平台的温度快速达到薄膜沉积时的反应温度，提高薄膜沉积的生产效率。且本实用新型提供的反应腔加热机构及薄膜沉积设备的热量损失少，能够降低能源的消耗。此外，本实用新型提供的反应腔加热机构及薄膜沉积设备不会导致生产车间内的环境温度大幅度升高。
