峨眉山市晶辉硅业科技申请利用X荧光快速检测硅粉杂质元素专利,解决现有硅粉杂质元素检测结果不精准的问题

峨眉山市晶辉硅业科技申请利用X荧光快速检测硅粉杂质元素专利,解决现有硅粉杂质元素检测结果不精准的问题
2024年10月21日 14:55 金融界网站

本文源自:金融界

金融界2024年10月21日消息,国家知识产权局信息显示,峨眉山市晶辉硅业科技有限公司申请一项名为“一种利用X荧光快速检测硅粉杂质元素的方法”的专利,公开号CN 118758986 A,申请日期为2024年6月。

专利摘要显示,本发明公开了一种利用X荧光快速检测硅粉杂质元素的方法,属于硅粉检测技术领域,目的在于解决现有硅粉杂质元素检测结果不精准的问题。其包括以下步骤:取20g硅粉标准样品,进行二次研磨;称取5g二次研磨后的硅粉标准样品,压制成标准样片;制备三枚标准样片;将三枚标准样片依次放入X射线荧光光谱仪进行分析测定,将三枚标准样片分析测定的标准曲线进行修正拟合后,建立标准样片的基准曲线;取20g硅粉测试样品,进行二次研磨;称取5g二次研磨后的硅粉测试样品,压制成测试样片;将测试样片放入X射线荧光光谱仪中,依靠基准曲线分析测定测试样片,获取硅粉测试样品中各杂质元素的含量。本发明适用于一种利用X荧光快速检测硅粉杂质元素的方法。

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