本文源自:金融界
金融界2024年10月26日消息，国家知识产权局信息显示，京东方华灿光电（苏州）有限公司申请一项名为“真空系统及化学气相沉积设备”的专利，公开号CN 118814132 A，申请日期为2024年6月。
专利摘要显示，本公开提供了一种真空系统及化学气相沉积设备，属于半导体制备设备领域。该真空系统，应用于化学气相沉积设备，真空系统包括缓冲罐、多个真空泵、多个腔体连接管路和多个蝶阀；多个真空泵分别与缓冲罐相连；多个腔体连接管路的第一端分别与缓冲罐相连，多个腔体连接管路的第二端用于连接化学气相沉积设备的反应腔，每个腔体连接管路上安装有蝶阀。本公开能够提高化学气相沉积设备的工作效率。
