TCL科技集团申请薄膜制备方法等专利，改善长时间热处理工艺对薄膜的不利影响_

本文源自:金融界

金融界2024年10月30日消息，国家知识产权局信息显示，TCL科技集团股份有限公司申请一项名为“薄膜的制备方法、光电器件及显示装置”的专利，公开号CN 118829334 A，申请日期为2023年4月。

专利摘要显示，本申请公开了一种薄膜的制备方法、光电器件及显示装置，制备方法包括以下步骤：提供初始薄膜；对所述初始薄膜进行溶剂退火处理，得到薄膜；其中，所述溶剂退火处理在磁场环境下进行。本申请旨在改善长时间热处理工艺对薄膜造成的不利影响。