本文源自:金融界
金融界2024年10月31日消息，国家知识产权局信息显示，重庆芯联微电子有限公司申请一项名为“光阻消退量的测量方法及光学邻近修正方法”的专利，公开号CN 118838127 A，申请日期为2024年8月。
专利摘要显示，本发明提供一种光阻消退量的测量方法及光学邻近修正方法，测量方法包括：提供光阻层，在光阻层定义出目标光阻图形，目标光阻图形上设置有锚定点；依据定义的目标光阻图形对光阻层进行曝光显影，以形成具有锚定点的实际光阻图形；基于实际光阻图形的锚定点位置确定目标光阻图形的目标边缘；通过测量获取实际光阻图形的实际边缘；基于实际边缘与目标边缘的间距，获取实际光阻图形的光阻消退量。本发明基于锚定点可以获取光阻图形准确的目标边缘，及通过测量获得光阻图形的实际边缘后，通过实际边缘与目标边缘的间距，可以准确获得光阻图形的实际光阻消退量。
