同方中科超光申请带有水冷装置的超精密激光调整支架专利,防止温度持续上升避免设备损坏

同方中科超光申请带有水冷装置的超精密激光调整支架专利,防止温度持续上升避免设备损坏
2024年10月31日 20:35 金融界网站

本文源自:金融界

金融界2024年10月31日消息,国家知识产权局信息显示,同方中科超光科技有限公司申请一项名为“一种带有水冷装置的超精密激光调整支架”的专利,公开号CN 118841815 A,申请日期为2024年8月。

专利摘要显示,本发明提供了一种带有水冷装置的超精密激光调整支架,包括机架组件和水冷机构,所述机架组件包括固定座、透镜支架和四个限位座;其中,所述透镜支架设于所述固定座的一侧,四个所述限位座分别设于所述固定座和透镜支架相邻的一侧,所述水冷机构设于所述固定座和透镜支架的内部;本发明通过利用水冷机构将冷却介质注入固定座的内部,并利用第一水道和第二水道使冷却介质在固定座的内部流动,然后通过利用连接机构将第二水道流出的冷却介质导入第三水道的内部,以便利用第一水道、第二水道和第三水道内流动的冷却介质吸收激光调整支架的热量,可以有效防止其温度持续上升,避免了镜片烧毁,造成设备损坏的情况发生。

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