上海赐兴取得扫描式光刻机架构专利,保证了掩膜台与硅片工作台在位置调整时的同步性

上海赐兴取得扫描式光刻机架构专利,保证了掩膜台与硅片工作台在位置调整时的同步性
2024年11月08日 12:35 金融界网站

本文源自:金融界

金融界2024年11月8日消息,国家知识产权局信息显示,上海赐兴微电子技术有限公司取得一项名为“一种扫描式光刻机架构”的专利,授权公告号 CN 221960406 U,申请日期为2023年12月。

专利摘要显示,本实用新型提供一种扫描式光刻机架构,掩膜台通过联动气浮装置的联动架组构造在硅片工作台的后上方,光源及主镜头分别构造在掩膜台的上方与下方;所述联动架组受驱动后可带动掩膜台与硅片工作台沿Y轴方向同步往复运动;当曝光时候,掩膜台和硅片工作台同时随着气浮台一起进行运动,进而同步调整掩膜台和硅片工作台相对于光源及主镜头的位置关系,进而保证了掩膜台与硅片工作台在位置调整时的同步性;两组气浮扫描台设置在掩膜台与硅片工作台的左右两侧,联动架组的二阶支撑柱贯穿气浮扫描台上的载台I,并且整个架构安装在气囊型减震气浮台的载台II,降低了移动时产生的震动摇摆,保证其抗震性。

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