上海芯谦申请孔隙均匀的抛光垫及其制备方法专利,降低抛光垫密度

上海芯谦申请孔隙均匀的抛光垫及其制备方法专利,降低抛光垫密度
2024年11月08日 20:40 金融界网站

本文源自:金融界

金融界2024年11月8日消息,国家知识产权局信息显示,上海芯谦集成电路有限公司申请一项名为“一种孔隙均匀的抛光垫及其制备方法”的专利,公开号CN 118905914 A,申请日期为2024年8月。

专利摘要显示,本发明涉及一种孔隙均匀的抛光垫及其制备方法,制备方法包括如下步骤(a) 分别称取以下重量组份原料:聚氨酯预聚物70~80份、发泡剂3~5份和扩链剂15~24份,所述发泡剂为对甲苯磺酰胺;(b)分别软化所述聚氨酯预聚物和所述扩链剂;(c)溶解所述发泡剂;(d)均匀混合所述聚氨酯预聚物和所述发泡剂,得到第一混合物;(e)均匀混合所述扩链剂与所述第一混合物,得到第二混合物;(f)对所述第二混合物进行模具固化处理。与现有技术相比,本发明用对甲苯磺酰胺(TSH)替代高温膨胀球,对甲苯磺酰胺会受热分解氮气,在抛光垫内部形成封闭、细密均匀的气孔,以实现抛光垫内部造孔,从而降低抛光垫的密度,有效避免了高温膨胀球造成的金属颗粒残留。

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