成都烽火润达取得微弧氧化用支架专利,能使锥形孔内部与外部连通得到较好的微弧氧化效果

成都烽火润达取得微弧氧化用支架专利,能使锥形孔内部与外部连通得到较好的微弧氧化效果
2024年11月11日 08:41 金融界网站

本文源自:金融界

金融界2024年11月11日消息,国家知识产权局信息显示,成都烽火润达科技有限公司取得一项名为“一种微弧氧化用支架”的专利,授权公告号 CN 221971706 U ,申请日期为 2023 年12 月。

专利摘要显示,本实用新型公开了一种微弧氧化用支架,其包括支撑杆、螺栓、螺母,所述支撑杆上均匀间隔设置有螺栓安装孔,在螺栓安装孔中安装螺栓,螺栓的螺纹部朝外,利用待微弧氧化零件上的锥形孔将待微弧氧化零件悬挂在螺栓的螺纹部,然后在螺栓的螺纹部安装螺母,所述螺栓与螺母之间具有 V 形的凹槽,螺栓与螺母之间具有的 V 形的凹槽的斜面与待微弧氧化零带的锥形孔的斜面之间保持夹角,使得锥形孔内部与外部连通能得到较好的微弧氧化效果,被封闭区用于安装螺栓则基本不受影响,安装位置为两个锥形面的结构,尽量减少与待微弧氧化零件的接触,使得更多面被氧化,不会影响安装区域的氧化效果。

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