本文源自:金融界
金融界2024年11月11日消息，国家知识产权局信息显示，深圳莱宝高科技股份有限公司申请一项名为“一种掩膜装置、掩膜装置的制作方法和光刻设备”的专利，公开号 CN 118915372 A，申请日期为 2023年5月。
专利摘要显示，本发明涉及光刻领域，公开了一种掩膜装置，包括由相邻设置的相移区和全透区的透明底板，相移区为具有遮光层和相移层的相移单元，遮光层设置在相移层的两侧，遮光层之间的距离小于或等于相移层的宽度，且相移层的宽度小于两侧的遮光层宽度与其间隙之和，从两个遮光层两侧透过的光线对于透过相移层光线的干涉效果相同，相移层的宽度为1～5μm、透光率为10％～90％，遮光层的宽度之和为1～8μm，本发明通过遮光层来限定相移区的宽度，减小了套合精度的影响，提高了相移层的线宽均匀性，降低了掩膜装置的制造难度，且相移区下方的衍射光线能够形成稳定的干涉相消，提升了转印图案的分辨率，本发明还提供一种掩膜装置的制作方法和光刻设备。
