物元半导体申请半导体器件制造方法专利,进一步减薄晶圆厚度

物元半导体申请半导体器件制造方法专利,进一步减薄晶圆厚度
2024年11月11日 20:20 金融界网站

本文源自:金融界

金融界2024年11月11日消息,国家知识产权局信息显示,物元半导体技术(青岛)有限公司申请一项名为“半导体器件的制造方法及半导体器件”的专利,公开号CN 118919489 A,申请日期为2024年7月。

专利摘要显示,本发明涉及一种半导体器件的制造方法及半导体器件,其中,制造方法至少包括以下步骤:提供一器件晶圆;对器件晶圆的正面执行正面工艺;形成覆盖器件晶圆的正面的硬掩模层;提供一支撑晶圆;将器件晶圆上的硬掩模层与支撑晶圆的键合表面键合连接,以使器件晶圆和支撑晶圆上下堆叠形成晶圆组合,晶圆组合位于厚度方向上的两侧表面分别为第一表面和第二表面;对晶圆组合的第一表面执行研磨工艺至器件晶圆达到目标厚度;对晶圆组合的第二表面执行Taiko工艺,通过Taiko工艺对支撑晶圆除边缘之外的区域进行减薄,减薄后在边缘形成环状结构。通过该制造方法可以进一步减薄晶圆厚度,同时减少缺陷的产生,提高良品率。

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