本文源自:金融界
金融界2024年11月12日消息，国家知识产权局信息显示，温州海旭科技有限公司取得一项名为“一种提高光利用率的多晶硅片”的专利，授权公告号 CN 221977955 U，申请日期为 2024 年 5 月。
专利摘要显示，本实用新型公开了一种提高光利用率的多晶硅片，包括外壳，所述外壳上端一处连接有第一反射罩，所述第一反射罩表面设置有第一反射镜，所述外壳上端另一处连接有第二反射罩，所述第二反射罩表面设置有第二反射镜，所述外壳内部底端连接有反射底板，所述反射底板上端连接有减反射罩，所述减反射罩上端连接有高透保护玻璃，所述减反射罩表面设置有粘接层，所述减反射罩表面设置有减反射凹槽，所述减反射凹槽内部连接有多晶硅片，本实用新型通过第一反射镜与第二反射镜将更多的光反射输送给多晶硅片，通过减反射凹槽的设置能够减少光的反射逸散，通过二氧化硅层与氮氧化硅层的设置可以减少光的反射率，从而有效地解决了现有装置出现的问题和不足。
