本文源自:金融界
金融界2024年11月12日消息，国家知识产权局信息显示，兴华芯（绍兴）半导体科技有限公司取得一项名为“一种提高光掩模板制作良率的废气处理装置”的专利，授权公告号CN 221981606 U，申请日期为2023年12月。
专利摘要显示，本实用新型涉及一种提高光掩模板制作良率的废气处理装置，包括：水洗腔体，其内部具有水蒸气；液位器，其两端均与所述水洗腔体连通，其中所述水洗腔体内的水蒸气由液位器的顶部进入所述液位器；气体管路，其设置在所述液位器之上，并与所述液位器连通，其中所述气体管路被配置为将进入所述液位器中的水蒸气吹向所述液位器的底部；排水泵，其与所述水洗腔体连通；气动阀，其被配置为控制所述排水泵与外界或所述排水泵与所述水洗腔体之间的通断。
