本文源自:金融界
金融界2024年11月14日消息，国家知识产权局信息显示，苏州五方光电材料有限公司申请一项名为“一种滤光片及其制备方法和应用”的专利，公开号CN 118938371 A，申请日期为2024年7月。
专利摘要显示，本发明公开了一种滤光片，依次包括应力平衡膜层、光学膜层和基材，所述应力平衡膜层和光学膜层位于所述基材的同一侧且光学膜层位于所述应力平衡膜层和基材之间，所述应力平衡膜层用于平衡所述光学膜层的应力对滤光片造成的影响。本发明的滤光片，通过设置应力结果相反的光学膜层和应力平衡膜层，使得应力平衡膜层平衡光学膜层的应力对滤光片造成的影响，有效提升滤光片的光学参数和效果。
