本文源自:金融界
金融界2024年11月14日消息，国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“套刻误差量测准确度评估方法”的专利，公开号 CN 118938611 A，申请日期为2024年8月。
专利摘要显示，本发明提供一种套刻误差量测准确度评估方法，包括：设置套刻标识；完成前层的光刻、刻蚀工艺，将前层套刻标识形成在前层上；第一次完成当层的光刻，量测当层对前层的套刻误差；根据第一次的套刻误差量测结果生成补偿值，在特殊区域生成预设的特殊补偿值；对晶圆进行返工，根据生成的补偿值进行二次曝光；再次测量二次曝光后的套刻误差，将预设的特殊补偿值与量测得到的特殊补偿值进行相关性分析，或者将补偿后实际量测的套刻误差与补偿后预测的的套刻误差进行相关性分析；根据相关性分析结果判断量测的准确度。本发明方便快速的对线上的量测方式进行评估；灵活性较大，通过特殊区域的特殊补偿值的设置排除晶圆边缘标识受其他工艺过程的影响。
