江苏科维仪表控制工程有限公司取得膜片抛光装置专利,解决半导体芯片制程中膜片表面粗糙度要求高的难题

江苏科维仪表控制工程有限公司取得膜片抛光装置专利,解决半导体芯片制程中膜片表面粗糙度要求高的难题
2024年11月15日 20:15 金融界网站

本文源自:金融界

金融界2024年11月15日消息,国家知识产权局信息显示,江苏科维仪表控制工程有限公司取得一项名为“一种膜片抛光装置”的专利,授权公告号CN 222003031 U,申请日期为2023年12月。

专利摘要显示,本实用新型公开了一种膜片抛光装置,涉及半导体技术领域,包括送料组件、抛光组件、夹持运动组件、清洗回收组件和上料组件,所述送料组件用于输送待抛光膜片,所述上料组件用于将待抛光膜片放置在所述夹持运动组件上,所述夹持运动组件用于夹持待抛光膜片所述抛光组件用于对所述夹持运动组件上的待抛光膜片进行抛光,所述夹持运动组件能够带动待抛光膜片转动和摆动,所述上料组件用于将所述抛光组件抛光完的膜片放置在所述清洗回收组件上,所述清洗回收组件用于对膜片清洗和烘干。本实用新型的目的是提供一种膜片抛光装置,对膜片的凹面和凸面进行抛光,解决了半导体芯片制程中多种控制阀门中膜片表面粗糙度要求较高的难题。

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