欣旺达动力申请电极涂布系统专利,降低极片涂布错位率

欣旺达动力申请电极涂布系统专利,降低极片涂布错位率
2024年11月21日 13:15 金融界网站

本文源自:金融界

金融界2024年11月21日消息,国家知识产权局信息显示,欣旺达动力科技股份有限公司申请一项名为“电极涂布系统”的专利,公开号 CN 118976664 A,申请日期为2024年7月。

专利摘要显示,本申请涉及电池生产设备技术领域,尤其是涉及一种电极涂布系统,用于在基材上涂布电极材料,所述基材具有相对设置的第一面和第二面,电极涂布系统包括第一涂布装置和第二涂布装置,第一涂布装置用于涂布基材的第一面,第二涂布装置用于涂布基材的第二面。第一涂布装置包括第一模头,第一模头沿第一方向延伸,第一方向垂直于基材的运动方向。第二涂布装置包括多个第二模头,多个第二模头沿第一方向并排设置,且每一第二模头均被设置为在第一方向上的位置可单独调整。根据本申请提供的电极涂布系统,提高了第二涂布装置的纠偏灵活性,保证了涂布基材两面涂膜的对齐性,有效地降低了极片涂布错位率,提高了电芯质量。

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