本文源自:金融界
金融界2024年11月21日消息，国家知识产权局信息显示，应用材料公司申请一项名为“监视化学机械抛光中的抛光垫纹理”的专利，公开号 CN 118977201 A，申请日期为2020年3月。
专利摘要显示，一种用于化学机械抛光的设备包含：平台，所述平台具有表面以支撑抛光垫；承载头，所述承载头固持基板抵靠抛光垫的抛光表面；垫调节器，所述垫调节器将研磨主体压靠在抛光表面上；原位抛光垫监视系统，所述原位抛光垫监视系统包含设置在平台上方的成像器以捕获抛光垫的图像；以及控制器，所述控制器被配置成接收来自监视系统的图像并且基于所述图像生成抛光垫表面粗糙度的测量。控制器可使用基于机器学习的图像处理来生成表面粗糙度的测量。
