本文源自:金融界
金融界2024年11月21日消息，国家知识产权局信息显示，深圳市诚峰智造有限公司取得一项名为“一种在线真空等离子清洗腔”的专利，授权公告号CN 222020279 U，申请日期为2023年12月。
专利摘要显示，本实用新型公开了一种在线真空等离子清洗腔，包括上腔体和底板，底板上设置有多层料道治具，多层料道治具由多组相平行轨道构成，平行轨道包括相对设置的两个轨道条，轨道条上设置有至少两层轨道槽；各相对的轨道槽用以放置对应规格的产品；上腔体为一矩形盖体结构，其第一侧面设有进气接口，进气接口外侧连接外部等离子气体源，其内侧连通上腔体内部上腔体上与第侧面相对的另一侧 面设有抽气口，抽气口连接至抽气装置；上腔体的上表面设有连接射频电源的能量馈入口，上腔体密封盖合在底板上方。本实用新型能够使单次等离子处理的数量增加，提升处理效率。
