本文源自:金融界
金融界2024年11月21日消息，国家知识产权局信息显示，华海清科股份有限公司取得一项名为“电涡流传感器探头及化学机械抛光设备”的专利，授权公告号CN 222021381 U，申请日期为2024年9月。
专利摘要显示，本申请涉及化学机械抛光技术领域，提供了一种电涡流传感器探头及化学机械抛光设备，所述电涡流传感器探头设置在化学机械抛光设备的抛光盘上，并与抛光垫接触，所述电涡流传感器探头包括：探头底座，设置有用于容纳探头本体的容纳空间；电磁屏蔽层，设置在所述探头底座上，且至少覆盖所述探头本体的测量端，用于屏蔽噪声；探头罩，固定设置在所述探头底座上，用于隔离所述电磁屏蔽层与化学机械抛光设备的抛光垫。通过在探头底座上设置至少覆盖探头本体的测量端，可以有效减少噪声对测量端的干扰，保证电涡流传感器的测量精度，并且通过设置探头罩，可以减少抛光垫的更换过程对电磁屏蔽层造成损耗，保证电磁屏蔽层的使用寿命较长。
