本文源自:金融界
金融界2024年11月22日消息，国家知识产权局信息显示，ASM IP 私人控股有限公司申请一项名为“包含硅和氮的材料的选择性沉积”的专利，公开号 CN 118983212 A，申请日期为 2024 年 5 月。
专利摘要显示，本公开涉及用于将包含硅和氮的材料选择性地沉积到包含第一表面和第二表面的衬底上的方法和系统，其中沉积在衬底的第一表面上比在衬底的第二表面上发生得更多。更具体地，该方法和系统包括将包含第一表面和第二表面的衬底暴露于氯源和硅源，然后将衬底暴露于氮源，以在衬底的第一表面上选择性地沉积包含硅和氮的材料。
