深圳市志凌伟业光电取得一种新型电镀设备专利,大大降低电镀金属厚度不均匀的问题

深圳市志凌伟业光电取得一种新型电镀设备专利,大大降低电镀金属厚度不均匀的问题
2024年11月26日 11:56 金融界网站

本文源自:金融界

金融界2024年11月26日消息,国家知识产权局信息显示,深圳市志凌伟业光电有限公司取得一项名为“一种新型电镀设备”的专利,授权公告号 CN 222043394 U,申请日期为2023年12月。

专利摘要显示,本实用新型公开了一种新型电镀设备,包括U形连通管,U形连通管的内部装有电镀液,U形连通管的一端内设置有铜板,铜板的一端设置有连接负极,U形连通管的另一端设置有转换管,转换管上设置有产品,转换管的外侧设置有金属管,金属管与盖子之间接触,金属管的一端连接有连接正极,铜板的部分浸泡在电镀液中上端,转换管的一侧设置有支撑架,支撑架上设置有调节螺杆,调节螺杆的底部通过轴承转动连接有连接块;本实用新型通过金属管连接电极,控制液位,使得电镀液与产品接触,施加所需电压,对产品进行电镀,由于电镀时金属电极四周都连接产品,能大大降低电极近端和远端的电流密度不同导致的电镀金属厚度不均匀的问题。

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