盛瑞芯申请一种超高频石英晶片抛光机及抛光方法专利,能实现石英晶片高效抛光

盛瑞芯申请一种超高频石英晶片抛光机及抛光方法专利,能实现石英晶片高效抛光
2024年11月26日 16:15 金融界网站

本文源自:金融界

金融界2024年11月26日消息,国家知识产权局信息显示,深圳市盛瑞芯科技有限公司申请一项名为“一种超高频石英晶片抛光机及抛光方法”的专利,公开号 CN 119017227 A,申请日期为2024年8月。

专利摘要显示,本发明涉及抛光技术领域,其公开了一种超高频石英晶片抛光机,包括工作台与中间齿轮,工作台的上端开设有工作孔,工作台的内部设置有下抛光机构,工作台的上端设置有上抛光机构,中间齿轮的端面沿圆周方向阵列设置有若干个插孔,中间齿轮的厚度小于石英晶片的厚度,下抛光机构与上抛光机构均包括抛光构件,抛光构件包括与工作孔同轴的旋转柱以及用于驱使旋转柱发生旋转的电机,旋转柱朝向工作孔的一端同轴设置有固定盘,固定盘朝向工作孔的一端同轴设置有吸附盘,吸附盘朝向工作孔的一端同轴可拆卸式安装有抛光盘。

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