阿梓萨申请高稳定、无残留晶圆切割用胶带专利,利用配位交联作用避免胶的残留

阿梓萨申请高稳定、无残留晶圆切割用胶带专利,利用配位交联作用避免胶的残留
2024年11月27日 08:35 金融界网站

本文源自:金融界

金融界2024年11月27日消息,国家知识产权局信息显示,阿梓萨科技(深圳)有限公司申请一项名为“高稳定、无残留晶圆切割用胶带及其制备方法”的专利,公开号 CN 119019946 A,申请日期为2024年8月。

专利摘要显示,本发明公开了高稳定、无残留晶圆切割用胶带的制备方法,具体包括如下步骤:步骤1,合成多臂前驱体;步骤2,根据步骤1所得产物制备多臂半共轭三联吡啶化合物;步骤3,根据步骤2所得产物制备晶圆切割胶步骤4将步骤3制备的晶圆切割胶制备晶圆切割用胶带。本发明还公开了采用上述制备方法制得的高稳定、无残留晶圆切割用胶带,本发明利用Zn+、丙烯酸、三联吡啶之间配位交联作用避免了胶带剥离时胶的残留,同时通过三联吡啶结构提高了胶带中胶的光学稳定性。

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