武汉精立申请基于大语言模型的良率管理方法专利,实现在电子设备生产制造中利用模型进行良率管理

武汉精立申请基于大语言模型的良率管理方法专利,实现在电子设备生产制造中利用模型进行良率管理
2024年11月28日 09:06 金融界网站

本文源自:金融界

金融界2024年11月28日消息,国家知识产权局信息显示,武汉精立电子技术有限公司申请一项名为“一种基于大语言模型的良率管理方法、装置及电子设备”的专利,公开号CN 119026984 A,申请日期为2024年8月。

专利摘要显示,本申请属于智能生产制造领域,具体公开了一种基于大语言模型的良率管理方法、装置及电子设备,该方法包括:获取被测物的调测数据;输入调测数据至大语言良率管理模型,获取大语言良率管理模型输出的良率管理数据。本申请提供的大语言良率管理模型是基于语料库对模型进行训练,而语料库包括多个对话语料样本,对话语料样本是基于调测数据样本和良率管理数据样本生成的,经过训练得到的大语言良率管理模型具备基于调测数据确定良率管理数据的能力,进而在模型应用阶段,可以将取被测物的调测数据输入至大语言良率管理模型,获取大语言良率管理模型输出的良率管理数据,实现在电子设备的生产制造过程中,利用大语言良率管理模型进行良率管理。

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