本文源自:金融界
金融界 2024 年 11 月 28 日消息，国家知识产权局信息显示，武汉科鉴文化科技有限公司申请一项名为“一种细粒度中国书法风格识别模型构建方法、系统、设备及存储介质”的专利，公开号 CN 119027963 A，申请日期为 2024 年 6 月。
专利摘要显示，本发明公开了一种细粒度中国书法风格识别模型构建方法、系统、设备及存储介质，所述方法步骤包括：获取并构建一个包含多位中国著名书法家作品的数据集；对所述数据集中的书法图片进行预处理；选择一个深度学习模型，将所述预处理后的数据集与通用图像数据集结合，对所述深度学习模型进行再训练；将所述预处理后的数据集输入到所述模型中进行 CLS 特征提取，然后将所有图像的 CLS 特征全部组合成一个新的 CLS 特征向量；对所述 CLS 特征向量进行主成分分析降维；使用高斯混合模型对所述降维后的 CLS 特征向量进行拟合；计算所述预处理后的数据集的对数似然值；所述模型不仅仅局限于识别常见的字体风格，更能精确识别到具体是哪位书法家的风格。
