天津威盛申请包括形成有氧化电极层的 IDT 电极的表面声波器件及制造方法专利,能制造出满足特定厚度条件的表面声波器件

天津威盛申请包括形成有氧化电极层的 IDT 电极的表面声波器件及制造方法专利,能制造出满足特定厚度条件的表面声波器件
2024年11月28日 15:56 金融界网站

本文源自:金融界

金融界 2024 年 11 月 28 日消息,国家知识产权局信息显示,天津威盛电子有限公司申请一项名为“包括形成有氧化电极层的 IDT 电极的表面声波器件及制造方法”的专利,公开号 CN 119030496 A,申请日期为 2024 年 5 月。

专利摘要显示,提供一种包括形成有氧化电极层的 IDT 电极的表面声波器件及制造方法。所述表面声波器件包括压电基板和形成在所述压电基板上的多个 IDT 电极,其中,所述多个 IDT 电极中的每一个包括:主电极层,其形成在所述压电基板上表面;上电极层,其形成在主电极层上;以及氧化电极层,其通过上电极层的氧化而在所述上电极层的上表面上形成,其中,所述多个 IDT 电极中的每一个的厚度(te)相对于所述氧化电极层的厚度(to)满足 0.011≤to/te≤0.333。

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