本文源自:金融界
金融界2024年11月28日消息，国家知识产权局信息显示，上海和辉光电股份有限公司申请一项名为“一种脱掺杂层及包含其的有机电致发光器件”的专利，公开号CN 119031743 A，申请日期为2023年5月。
专利摘要显示，本发明提供一种脱掺杂层及包含其的有机电致发光器件，所述脱掺杂层的制备原料包括乙烯基吡咯烷酮和胺类化合物的组合，由于所述脱掺杂层中的胺类化合物中包含孤对电子，利用所述孤对电子能够与空穴传输层的“空穴”结合，从而在应用于制备电致发光器件时，脱掺杂层可以使空穴注入层实现脱掺杂，进而有效解决了低灰阶串扰的问题，提高了包含所述脱掺杂层的有机电致发光器件的显示品质。
