本文源自:金融界
金融界 2024 年 11 月 29 日消息，国家知识产权局信息显示，重庆中润新材料股份有限公司申请一项名为“一种超净高纯 NMP 生产系统”的专利，公开号 CN 119034332 A，申请日期为 2024 年 8 月。
专利摘要显示，本发明属于 NMP 技术领域，具体涉及一种超净高纯 NMP 生产系统，包括以下生产工艺：S1：在处理单元一脱除 NMP 中的磁性颗粒物；S2：在处理单元二过滤 NMP 中携带的非磁异颗粒物及残留的磁性颗粒物；S3：在处理单元三脱除 NMP 中的残余金属离子及极细小颗粒物；S4：在处理单元四脱除 NMP 中金属离子杂质，本发明采用超净高纯 NMP 的生产工艺并配套建设洁净厂房、自动罐装产线等。将常规的电子级 NMP 的金属离子、磁异/非磁异颗粒物等脱除干净，使之达到超净高纯试剂中 SEMI‑G3 级别，满足半导体、集成电路及新型显示领域对超净高纯 NMP 的使用需求。
