本文源自:金融界
金融界2024年11月29日消息，国家知识产权局信息显示，山西中科潞安紫外光电科技有限公司取得一项名为“一种气相化学沉积设备顶盘清洁装置”的专利，授权公告号CN 222064657 U，申请日期为2023年9月。
专利摘要显示，一种气相化学沉积设备顶盘清洁装置，包括：基座，基座包括第一密封件，第一密封件与气相化学沉积设备顶盘的第一进气口对应设置；以及第一供气管，第一供气管与顶盘的第二进气口对应设置，以向第二进气口提供清洁用气体；卡持部，卡持部和基座之间相隔预定距离，以在二者之间容纳顶盘的至少部分结构；卡持部与顶盘接触，具有向顶盘施加的保持力，以使第一密封件密封第一进气口。本实用新型提供的气相化学沉积设备顶盘清洁装置，该装置的第一供气管与其中一个顶盘进气口连通，并且将未与第一供气管连通的其他进气口封闭，使清洁气体由一个进气口输送到顶盘内部，实现对顶盘内部的吹扫，有效清洁顶盘内部的沉积杂质。
