本文源自:金融界
金融界2024年11月30日消息，国家知识产权局信息显示，太仓硅源纳米材料有限公司申请一项名为“一种Cr3+掺杂非球形氧化硅复合磨粒及其制备方法和应用”的专利，公开号CN 119039935 A，申请日期为2024年9月。
专利摘要显示，本发明公开了一种Cr3+掺杂非球形氧化硅复合磨粒及其制备方法和应用，属于碳化硅表面抛光加工领域。本发明的非球形氧化硅通过偏铝酸钠诱导球形氧化硅形成，之后进一步将Cr3+掺入其中，在化学反应和机械作用两方面提升碳化硅晶圆抛光后的材料去除率。与常规球形氧化硅磨粒相比，本发明的Cr3+掺杂非球形氧化硅复合磨粒对碳化硅的材料去除率最大可提高222％。
