本文源自:金融界
金融界2024年11月30日消息，国家知识产权局信息显示，宁波平恒电子材料有限公司申请一项名为“一种CMP抛光液及其制备方法”的专利，公开号CN 119039885 A，申请日期为2024年9月。
专利摘要显示，本发明涉及一种CMP抛光液及其制备方法，以总质量百分含量为100wt％计，所述CMP抛光液的原料包括：硅溶胶9‑11wt％，有机酸0.1‑5wt％，有机胺≤1wt％，防腐剂0.01‑0.1wt％，余量为溶剂。本发明通过选择形貌可控的硅溶胶作为抛光介质以及环保、生物相容性好的添加剂，同时控制原料用量配比，使得CMP抛光液的研磨性能优异，且可以实现对不同材料的研磨，具有更广泛的应用范围和更高的选择性；所得CMP抛光液的抛光速率选择比较高，进一步提高了产品的性能和适用性。
