本文源自:金融界
金融界2024年11月30日消息，国家知识产权局信息显示，西安蓝桥新能源科技有限公司申请一项名为“一种用于硅片碱刻蚀抛光的添加剂、反应液及方法与应用”的专利，公开号CN 119039991 A，申请日期为2024年10月。
专利摘要显示，本发明属于硅片加工技术领域，涉及一种用于硅片碱刻蚀抛光的添加剂、反应液及方法与应用。本发明提供了一种用于硅片碱刻蚀抛光的添加剂，以质量百分比计，所述添加剂由：消泡剂0.3~1.0%，修饰剂0.1~1.0%，促进剂0.1~1.0%，以及余量的去离子水构成；所述消泡剂选自非离子型表面活性剂中的至少一种，所述修饰剂选自含苯基的氧化磷类化合物、含苯基的酯类化合物中的至少一种，所述促进剂选自具有氧化性的强碱弱酸盐、具有氧化性的硼酸盐中的至少一种。本发明提供的添加剂用于硅片碱刻蚀抛光时，能使得硅片背面金字塔腐蚀平整和塔基圆化，具备优异的钝化性能与较低的接触电阻，通过提高短路电流最终达到提高电池效率的目的。
