本文源自:金融界
金融界2024年11月30日消息，国家知识产权局信息显示，江苏微导纳米科技股份有限公司申请一项名为“一种原子层沉积镀膜方法”的专利，公开号CN 119040856 A，申请日期为2024年8月。
专利摘要显示，本申请公开了一种原子层沉积镀膜方法，该镀膜方法包括至少一个镀膜循环工艺，镀膜循环工艺包括：向容置有基体的反应装置内通入第一工艺气体，其中，第一工艺气体包括第一反应气体和惰性气体，且第一工艺气体的通入时长范围为0.1s‑5s；封闭反应装置，使第一工艺气体扩散吸附至基体的待镀膜表面；对反应装置进行第一吹扫处理；向反应装置内通入第二工艺气体，其中，第二工艺气体包括第二反应气体和惰性气体，且第二工艺气体的通入时长范围为0.1s‑5s；封闭反应装置，使第二工艺气体扩散吸附至基体的待镀膜表面；对反应装置进行第二吹扫处理。通过上述方式，本申请能够保证沉积钝化膜的效果的同时降低绕镀问题。
