本文源自:金融界
金融界2024年11月30日消息，国家知识产权局信息显示，苏州方昇光电股份有限公司申请一项名为“一种真空镀膜膜厚监控方法及装置”的专利，公开号CN 119040837 A，申请日期为2023年5月。
专利摘要显示，本申请公开了一种真空镀膜膜厚监控方法及装置，所述方法包括：在测试点位沉积预监测的薄膜，并设置好预检测的薄膜的标准光学参数A；光源根据沉积的预监测的薄膜的材料选择对应的波长的光；信号接收器收集不同膜厚下光源信息，得到光透过薄膜后的实际光学参数B；将实际光学参数B反馈至信息处理单元转换为数字信号反应在电子屏幕上分别与预设的标准光学参数A对比；当标准光学参数A与实际光学参数B相差超过5％，即认定为膜厚异常并做出反馈控制。本发明保证了单一膜层测量的准确性与实时性，并且固定在测量点位附近进行测量，避免了资源的浪费。
