北京晶格领域半导体公司申请液相法碳化硅单晶生长装置及方法专利,提高碳的利用率

北京晶格领域半导体公司申请液相法碳化硅单晶生长装置及方法专利,提高碳的利用率
2024年11月30日 10:16 金融界网站

本文源自:金融界

金融界2024年11月30日消息,国家知识产权局信息显示,北京晶格领域半导体有限公司申请一项名为“一种液相法碳化硅单晶的生长装置及生长方法”的专利,公开号 CN 119041010 A,申请日期为 2024 年 10 月。

专利摘要显示,本发明涉及一种液相法碳化硅单晶的生长装置及生长方法,属于碳化硅单晶生产技术领域。生长装置包括生长坩埚、固定有籽晶的籽晶杆、用于测定生长原料位置的激光测距仪、活动石墨块、制动装置和封堵石墨;生长坩埚的坩埚盖对应激光测距仪出光孔的正下方设有预留孔;生长坩埚侧壁设有至少四列孔洞,每列孔洞自上而下间隔均匀分布,底部中心位置设有一个孔洞,活动石墨块填充在孔洞内,封堵石墨一端嵌入孔洞,另一端套在生长坩埚外壁;封堵石墨中心设有供制动装置穿过并与活动石墨块连接的开孔,制动装置用于控制活动石墨块相对生长原料前后移动。本发明装置可以实现长晶前的高温线位置确定与调整,可以减弱生长溶液中自循环对流,提高碳的利用率。

财经自媒体联盟更多自媒体作者

新浪首页 语音播报 相关新闻 返回顶部