上海汶涞光电申请遮光片及其制备方法专利，减薄遮光片边缘端面降低反射和漫射_

本文源自:金融界

金融界2024年11月30日消息，国家知识产权局信息显示，上海汶涞光电有限公司申请一项名为“一种遮光片及其制备方法”的专利，公开号 CN 119045262 A，申请日期为2023年5月。

专利摘要显示，本发明提供了一种遮光片及其制备方法，一种遮光片，包括基材，所述基材的圆周外壁设置有倒角结构整体呈圆台结构，所述基材的圆台结构表面涂覆有黑色的碳素层，所述基材的底部设有第二铝箔层，所述第二铝箔层远离基材的一侧面连接导电丙烯酸压敏胶层；所述基材圆台结构的中心设有通光孔，所述通光孔的孔壁上设有第一铝箔层，所述第一铝箔层上涂覆有复合颗粒涂层。本发明通过圆台结构的斜面化处理，减薄了遮光片边缘端面，使端面厚度变薄来降低从遮光片断面产生的反射和漫射；通过第一铝箔层和第二铝箔层起到良好的电磁屏蔽作用，通过导电丙烯酸压敏胶层起到与电子产品粘固和导电作用。