本文源自:金融界
金融界2024年12月2日消息，国家知识产权局信息显示，武汉鸿发源电气有限公司取得一项名为“一种铜铝电极电连接的铜铝过渡排”的专利，授权公告号 CN 222072208 U，申请日期为2023年12月。
专利摘要显示，本实用新型涉及铜铝过渡排技术领域，提出了一种铜铝电极电连接的铜铝过渡排，包括铜片层，所述铜片层的尾部焊接有铝片层，所述铝片层的顶部焊接有与铜片层固定连接的连接条，所述铝片层的内部开设有埋线槽，所述铝片层的顶部固定连接有螺栓，所述螺栓的表面滑动连接有固定板，所述固定板的上方设置有与螺母，所述铜片层和铝片层的侧面均固定连接有包边层，本实用新型中通过设置埋线槽，埋线槽可将线路隐藏在自身内部，且埋线槽与铝片层的衔接处为倾斜设置，可有效避免在衔接处的直角在线路的表面压出压痕，通过设置固定板，可拧动螺母，使其沿着螺栓下降，并推动固定板，固定板随即固定在铝片层的顶部，对线路进行固定。
