浙江优众新材料科技申请一种基于生成对抗学习的三维光子结构全局逆设计方法专利,提供更多可能性并适用多类型多维光子结构设计

浙江优众新材料科技申请一种基于生成对抗学习的三维光子结构全局逆设计方法专利,提供更多可能性并适用多类型多维光子结构设计
2024年12月02日 13:55 金融界网站

本文源自:金融界

金融界2024年12月2日消息,国家知识产权局信息显示,浙江优众新材料科技有限公司申请一项名为“一种基于生成对抗学习的三维光子结构全局逆设计方法”的专利,公开号 CN 119049621 A,申请日期为2024年11月。

专利摘要显示,本发明公开了一种基于生成对抗学习的三维光子结构全局逆设计方法,涉及电数字数据处理技术领域,包括步骤:获取目标光子结构结构特征和材料属性RGB通道编码下的彩色图像,并与各目标光子结构单元的吸收光谱组成训练数据集进行生成对抗模型训练;以目标光谱为优化后生成器的输入生成含有光子结构信息的设计图,并解码构建相应设计方案;通过对目标光谱的潜在向量进行采样和扰动,生成多个针对同一目标光谱的设计方案;根据各设计方案使用查找表将预测的材料属性替换为最接近的标准材料属性,并通过数值模拟结果筛选出最优设计方案。本发明能够提供了更多的可能性,并适用多类型多维的光子结构的结构设计,具有更强的通用性和适应性。

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